содержание
КРИСТАЛЛИЗАЦИЯ ЭПИТАКСИАЛЬНЫХ СЛОЕВ НЕОДИМ - АЛЮМИНИЕВОГО БОРАТА NdAl3(BO3)4 ИЗ МОЛИБДАТНЫХ И БОРАТНЫХ РАСТВОРОВ - РАСПЛАВОВ
О.В. Колганова, В.В. Мальцев, Н.И. Леонюк
Достигнутый в последнее время прогресс в области получения пленочных кристаллических материалов стимулировал существенное расширение их применений, а их многообразие по составу и структуре предполагает разработку новых методов их производства.
Среди них значительное место занимает метод жидкофазной эпитаксии (ЖФЭ). Немаловажный интерес представляют монокристаллические пленки редкоземельно-алюминиевых боратов с общей формулой RAl3(BO3)4 (RAB), в частности NdAl3(BO3)4 (NAB), а также YAl3(BO3)4 (YAB), активированный ионами Yb3+ и Er3+. Из них можно конструировать эффективные минилазеры и другие электронно-оптические приборы нового поколения для научных, медицинских, промышленных и других целей.
Данная работа посвящена получению тонких слоев NAB методом ЖФЭ на собственных подложках. При этом использовалась исходная шихта состава 21 мас.% NdAl3(BO3)4 - 79 мас.% [54,88 мас.% K2Mo3O10 - 9,86 мас.% B2O3 - 14,22 мас.% Nd2O3 ]. Температура насыщения раствора-расплава предварительно уточнялась зондовым методом по изменению характера поверхности пробной затравки и составила 1083°C. Кинетика кристаллизации пленок изучалась в интервале относительного пересыщения раствора-расплава от 0,05 до 0,14. Скорости роста V слоев на подложках NAB, ориентированных параллельно граням призм, изменяются в диапазоне V = 2,29 - 9,17 мкм/час, а на гранях ромбоэдра скорость варьирует в пределах V = 0,6 - 6,3 мкм/час.
Работа выполнена при частичной финансовой поддержке по гранту Президента Российской Федерации МК-2721.2011.5.
|